真空甩帶爐顧名思義就是真空度高，因為它的結構是圓形的，可以抽到很高的真空度。這就在于價格方面了，一般的真空爐價格在20W以上，而小的氣氛爐價格僅2W左右，如果客戶需求的真空度不高，氣氛爐能滿足它的要求，你說它如何選擇。再說氣氛爐一般一邊進氣一邊出氣，通保護氣體，也可以阻止了空氣進入爐內，完全可以達到產品加工的要求。 　　從目前的情況來看，真空甩帶爐的熱處理方法基本上都是通過一些熱處理的車間進行普遍性的處理技術，相對來講它無碳化，無氧化，整個淬火之后的工件表面如果表現出比較光亮的清潔性，耐磨性相對較高和污染的特點，這才是一種熱處理的正常反應，而且，這種熱處理的方式一直以來都是被推廣的。在工業當中，廣泛采用了真空退火爐，水淬，油淬，以及回火等各個不同的熱處理的方式。 　　可控氣氛熱處理，同樣也是整個真空甩帶爐熱處理的一種方法，它能夠有效地實現計算機的管理，同樣也具有一系列的設計，而且有著友好的人機界面的設計，相對來說，這里主要就是一些防氧化和脫碳工作，它能夠有效地對整個滲碳的參數提供一系列的精確控制，緊貼用戶原本的需求，有針對性地推出各個價格適中，款式多樣的氣氛爐，相對而言，大家都能夠做到一些工藝性的參數優化。 　　以上就是真空甩帶爐熱處理方法的介紹。如果您有想咨詢的，歡迎來電。

　　氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。