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該設備主要用于多晶硅前處理工序，在高溫真空環(huán)境下，對石墨電極、石墨基座、石墨卡瓣等進行煅燒，使石墨部件經酸洗、高溫烘干后仍殘余的水氣和氯化鹽
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