氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　真空熔煉爐有啥優點　　真空熔煉爐集多功能于一體，是標準化微波高溫實驗工作站。該設備具有***、節能、環保的特點，可廣泛用于各種氣氛下材料的煅燒、焙燒、燒結、高溫合成、灰化、熔融及熱處理，是實驗和小型生產的理想高溫設備。 　　真空熔煉爐的優點：　　應用先進的設計理念，采用加熱爐體和控制部件分體臺式結構設計，整機組合布局合理，體積小，結構外形美觀大方。　　選用高質量硅鉬棒加熱元件，加熱溫度可達1800℃，抗氧化，耐腐蝕，壽命長。　　加熱爐室內襯選用優質耐火保溫材料，確保加熱室電熱的***利用及溫度穩定性。　　熱電偶實時測溫，PID恒溫調節，PLC智能控制，保障制樣過程控制，制片質量優越。　　真空熔煉爐全觸摸屏顯示操作，人機界面友好，人工干預少，只需上樣，通過觸摸屏設定好熔樣曲線，熔樣過程一鍵自動完成。　　設計有用戶可調自動搖擺系統保障了熔片的均勻性和熔片質量，全自動倒模及抖動輔助，適應不同材質樣品的制樣需要。　　儀器設計有多重保護（超溫、搖擺運動限位保護等），使儀器更安全穩定可靠運行。　　倒樣澆鑄在爐內完成，對人體熱輻射少，設計有強制風冷系統加快熔片冷卻，提***率。　　整機升溫快、節能、運行穩定，工作溫度可達1800℃，對不同樣品材質有較好的溫度適用性，制得的樣片均勻，較好滿足XRF分析。　　真空熔煉爐單次可同時熔融四個樣片（用戶還可定制6個樣位機型），整機性價比高。